特許
J-GLOBAL ID：200903027782658817
マグネトロンプラズマ用磁場発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森崎 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342403
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169591
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 均一性の良好な磁場を発生させられるマグネトロンプラズマ用磁場発生装置を提供すること。【構成】 高密度プラズマを生成するマグネトロン装置に設置して使用されるマグネトロンプラズマ用磁場発生装置を、複数の異方性セグメント磁石50をリング状に配置した双極子リング磁石より作り、この双極子リング磁石の長さ方向の中央断面と、プラズマの生成される空間56の中央断面とが一致するように設置し、双極子リング磁石の長さ方向の中央部に隙間54を設ける。
請求項（抜粋）：
高密度プラズマを生成するマグネトロン装置に設置して使用されるマグネトロンプラズマ用磁場発生装置であり、複数の異方性セグメント磁石をリング状に配置した双極子リング磁石より成り、該双極子リング磁石の長さ方向の中央断面と、プラズマの生成される空間の中央断面とが一致するように設置され、前記双極子リング磁石の長さ方向の中央部に隙間を設けた、ことを特徴とするマグネトロンプラズマ用磁場発生装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23C 14/35
, C23F 4/00
, H01J 37/32
