特許
J-GLOBAL ID：200903027802003227
マスク上へのビームのスキャニングによるレーザビームホモジナイゼーション
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091477
公開番号（公開出願番号）：特開2001-287070
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：
【要約】【課題】 投影イメージング配置で穿孔するために複数のパルスを使用する用途において、レーザビームをホモジナイズする方法および装置を得ること。【解決手段】 マスクのイメージがワークピースの表面上に投影される複数のパルス穿孔配置で使用するためのパルスレーザビームをホモジナイズするための装置であって、マスクへパルスレーザビームを反射するように構成されたミラーと、パルスレーザビームの中心軸がマスク上のパターンをトレースするようにミラーを動かし、長期間にわたりワークピースの表面上に投影されたマスクのイメージが、レーザ光ビームが投影される全領域でほぼ等しい強度を示すように構成された、スキャニング装置と、を備える、装置。
請求項（抜粋）：
マスクのイメージがワークピースの表面上に投影される複数のパルス穿孔配置で使用するためのパルスレーザビームをホモジナイズするための装置であって、該装置が以下、該マスクへ該パルスレーザビームを反射するように構成されたミラーと、該パルスレーザビームの中心軸が該マスク上のパターンをトレースするように該ミラーを動かし、長期間にわたり該ワークピースの該表面上に投影された該マスクの該イメージが、該レーザ光ビームが投影される全領域でほぼ等しい強度を示すように構成された、スキャニング装置と、を備える、装置。
IPC (5件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00 330
, B23K 26/08
, G02B 26/10 101
, G02B 27/09
B23K 26/06 E
, B23K 26/06 J
, B23K 26/00 330
, B23K 26/08 B
, G02B 26/10 101
, G02B 27/00 E
