特許
J-GLOBAL ID:200903027807942680
光走査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千葉 剛宏 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-319807
公開番号(公開出願番号):特開2002-131670
出願日: 2000年10月19日
公開日(公表日): 2002年05月09日
要約:
【要約】【課題】迷光による画像上の不具合の発生を確実に阻止し、簡単な構成で高品質な走査処理を行うことを可能にする。【解決手段】レーザ光照射機構42は、光源部50と、光ビーム走査部52と、光学定盤54とを備える。光ビーム走査部52は、ポリゴンミラー62を構成する下側フランジ部82および上側フランジ部84に反射防止処理として黒色処理が施されるとともに、第1および第2fθレンズ64、66を固定する板ばね88a、88b、90aおよび90bに黒色処理が施される。光学定盤54の壁部には、該壁部に対するレーザ光Lの照射直径以下のピッチPで連続した凹凸形状部位94が設けられる。
請求項(抜粋):
光ビームを出射する光源部と、前記光源部から出射される前記光ビームを偏向して被走査体に照射する光ビーム走査部と、少なくとも前記光ビーム走査部が装着される光学定盤と、を備え、前記光ビーム走査部は、光ビーム偏向用ミラーおよびレンズ系に近接する部材に反射防止処理が施されるとともに、前記光学定盤は、少なくとも前記光ビームが直接または光学部品で反射して照射される壁部に、該壁部に対する前記光ビームの照射直径以下のピッチで連続した凹凸形状部位を設けることを特徴とする光走査装置。
IPC (3件):
G02B 26/10
, B41J 2/44
, H04N 1/113
FI (3件):
G02B 26/10 F
, B41J 3/00 D
, H04N 1/04 104 A
Fターム (14件):
2C362DA26
, 2C362DA29
, 2H045AA03
, 2H045AA07
, 2H045AA33
, 2H045CB63
, 2H045DA04
, 5C072AA01
, 5C072AA03
, 5C072BA11
, 5C072HA01
, 5C072HA13
, 5C072HA20
, 5C072VA01
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