特許
J-GLOBAL ID：200903027815555644
放射線感受性組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-192546
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090902
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】 新規なポジ型の高活性な放射線感受性組成物の提供。【解決手段】 上記課題は、フェノール性ヒドロキシル基が、特定のアセタールおよび/またはケタール側基で部分的に置換されている、少なくとも二つのフェノール樹脂の混合物を、樹脂成分として含む、放射線感受性組成物を提供することによって解決される。この組成物はポジレジスト処方物として使用することができ、良好な加工安定性および高い流れ安定性に伴う高い熱安定性を特徴としている。
請求項（抜粋）：
成分A、BおよびCの全量に関して、(A) フェノール性ヒドロキシル基が、式I【化1】〔式中、R1およびR2は、互いに独立してC1〜C6アルキル、未置換または一つもしくはそれを超えるC1〜C4アルキル基で置換されたC3〜C6シクロアルキル、または-(CH2)nアリールを表し、R3は、水素、C1〜C6アルキル、未置換または一つもしくはそれを超えるC1〜C4アルキル基で置換されたC3〜C6シクロアルキル、または-(CH2)nアリールを表すか、またはR2およびR3は、この残基と結合するC-原子と一緒になって5〜8員環を形成し、これは環員として必要により別のヘテロ原子または基、例えば-O-、-S-、-SO2-または-NR8-(式中、R8は水素、C1〜C6アルキル、アリールまたはC6〜C16アラルキルを表す)を含むことができ、そしてnは0、1、2または3であり、そしてアリールは未置換のフェニルもしくはナフチル、または一つもしくはそれを超えるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ニトロもしくはシアノ基またはハロゲン原子で置換されたこれらの化合物を表す〕の保護基によって10〜90%まで置換されている、フェノール樹脂9.9〜95重量%;(B) フェノール性ヒドロキシル基が式II【化2】(式中、Xは、未置換であるか、または一つもしくはそれを超えるC1〜C4アルキル、C1〜C4-アルコキシ、ニトロもしくはシアノ基、もしくはハロゲン原子で置換されている以下の基;トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、2-オキサプロパンジイル、2-オキサブタンジイル、2-オキサペンタンジイル、3-オキサペンタンジイル、2-オキサヘキサンジイル、3-オキサヘキサンジイル、2-チアプロパンジイル、2-チアブタンジイル、2-チアペンタンジイル、3-チアペンタンジイル、2-チアヘキサンジイル、3-チアヘキサンジイル、2-アザプロパンジイル、2-アザブタンジイル、2-アザペンタンジイル、3-アザペンタンジイル、2-アザヘキサンジイルまたは3-アザヘキサンジイル基を表す)の保護基によって10〜90%まで置換されている、フェノール樹脂4.9〜90重量%;および(C) 化学作用放射線の影響下で酸を形成する物質0.1〜20.0重量%、を含む組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601
, C08L 25/18
, C09D125/18
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08L 25/18
, C09D125/18
, H01L 21/30 502 R
