特許

J-GLOBAL ID：200903027817504621

ナノ粒子の製造装置及びナノ粒子の製造方法

発明者： 下川 勝義 ,  鈴木 正昭 ,  ピアテンコ アレクサンダー
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (3件)： 平木 祐輔 ,  藤田 節 ,  石井 貞次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-377046
公開番号（公開出願番号）：特開2004-202439
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】ナノ粒子の生産効率を低下させることなく、比較的に均一な粒径分布でナノ粒子を製造する。【解決手段】ナノ粒子材料を含むターゲット基板を取り付ける基板取付部と、上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板に対向して配設され、ターゲット基板に対してレーザーを照射するレーザー照射手段と、上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板における、上記レーザー照射手段からのレーザーが照射される表面に対して液体を供給する液体供給手段とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ナノ粒子材料を含むターゲット基板を取り付ける基板取付部と、 上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板に対向して配設され、ターゲット基板に対してレーザーを照射するレーザー照射手段と、 上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板における、上記レーザー照射手段からのレーザーが照射される表面に対して液体を供給する液体供給手段と を備えるナノ粒子の製造装置。

IPC (2件)：

B01J19/12 ,  B82B3/00

FI (3件)：

B01J19/12 H ,  B01J19/12 B ,  B82B3/00

Fターム (24件)：

4G075AA27 ,  4G075AA62 ,  4G075BC10 ,  4G075CA36 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB34 ,  4G075EC01 ,  4G075ED01 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC13 ,  4K017AA01 ,  4K017BA02 ,  4K017CA08 ,  4K017DA09 ,  4K017EB08 ,  4K017EF05 ,  4K017FA02 ,  4K017FA11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-136606
  
• 特開昭50-064850
  
• 特開平4-063203