特許

J-GLOBAL ID：200903027820649975

排ガス処理方法

発明者： 佐 原 輝 隆 ,  田 中 明 雄
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-317245
公開番号（公開出願番号）：特開平9-136017
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：

【要約】【課題】 汚染土壌等の浄化排ガス中に含まれるトリクロロエチレン等の揮発性有機ハロゲン化合物の処理方法として,近年,紫外線で分解処理する方法が開発されつつある。しかし,紫外線を照射するだけではトリクロロエチレン等の完全分解に長時間を要する問題がある。そこで,従来技術の欠点を解消し,短時間に完全分解可能な排ガス処理方法を提供する。【解決手段】 排ガスに紫外線を照射して,排ガス中の揮発性有機ハロゲン化合物を分解する処理方法において,紫外線照射雰囲気中に酸化チタン等の光触媒を設置するようにした排ガス処理方法である。

請求項（抜粋）：

揮発性有機ハロゲン化合物などの有害成分を含む排ガスに酸素からオゾンを生成する波長を含む紫外線を照射するとともに、該紫外線の照射下にある光触媒と接触させて処理することを特徴とする排ガス処理方法。

IPC (5件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/70 ,  B01J 19/12

FI (5件)：

B01D 53/36 ZAB G ,  B01D 53/32 ,  B01J 19/12 Z ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/36 J