薄膜を有する基材およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-270473
公開番号（公開出願番号）：特開平7-120919
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【構成】基材の上に、窒素、酸素、硫黄各原子のうちの少なくとも1種類の原子で置換された炭化水素基と加水分解性基とがケイ素原子に直接結合したケイ素化合物の層、共役系重合体膜の順に構成されることを特徴とする薄膜を有する基材。【効果】基材と共役系重合体膜との間に、ケイ素化合物層を介在させることによって、が良好な密着性を有することになり、例えば密着性に優れた反射防止膜や遮光膜が得られる。

請求項（抜粋）：

基材の上に、窒素、酸素および硫黄から選ばれる少なくとも1種類の原子で置換された炭化水素基と加水分解性基とがケイ素原子に直接結合したケイ素化合物および/またはその加水分解縮合物からなるケイ素化合物層と、共役系重合体膜とをこの順に有することを特徴とする薄膜を有する基材。

IPC (4件)：

G03F 7/025 , C08J 5/18 CEZ , G03F 7/004 506 , G03F 7/11

前のページに戻る