特許
J-GLOBAL ID：200903027838856498
半導体製造装置用電気炉の温度制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 孝治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-248587
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077151
出願日： 1992年08月24日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 如何なる状況においても炉内温度を常に安定な状態に保つことができるようにする。【構成】 炉芯管10の壁面には炉内温度を検出するための熱電対30が設けられている。炉芯管10の炉内温度の調節は、電力制御器20とヒータ21、22、23からなる調節部で行う。熱電対30の検出信号αはコンピュータ40に導かれている。コンピュータ40には、炉内温度を常に安定な状態に保つのに必要なファジールールが予め用意されており、熱電対30の検出信号を入力としてファジー推論を行うとともに、推論結果を電力制御器20を制御するための制御信号βとして出力するようになっている。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置用電気炉の炉内温度を調節する調節部と、炉内温度を検出する温度センサと、炉内温度を常に安定な状態に保つのに必要なファジールールが予め用意されており、少なくとも温度センサの検出結果を入力としてファジー推論を行い、推論結果を調節部を制御するための信号として出力するファジー推論部とを具備していることを特徴とする半導体製造装置用電気炉の温度制御装置。
IPC (4件)：
H01L 21/22
, F27D 19/00
, H01L 21/31
, H01L 21/324
