特許

J-GLOBAL ID：200903027840390803

エキシマレ-ザ加工装置

発明者： 山下 博 ,  中村 邦雄 ,  岩渕 俊 ,  古谷 伸昭 ,  宮田 威男 ,  橋立 雄二
出願人/特許権者： 松下技研株式会社
代理人 (1件)： 役 昌明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-040726
公開番号（公開出願番号）：特開平5-218538
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目 的】 高いエネルギ-効率で、かつ、レ-ザビ-ム断面におけるエネルギ-分布が均一なエキシマレ-ザ加工装置を得ること。【構 成】 エキシマレ-ザ発振器1と、屈曲して突き合わせた2枚のミラ-2、3と、フォトマスク設置部4と、投影光学系5と、コ-ナ-ミラ-7と、試料設置台6とを具備し、レ-ザビ-ム断面を屈曲して突き合わせた2枚のミラ-2、3で、2分して重ねることにより、レ-ザビ-ム断面内のエネルギ-分布の不均一性を改善するもので、2枚のミラ-を2組用い、縦横2方向ともにエネルギ-分布の不均一性を改善するとともにこの2枚のミラ-をコ-ナ-ミラ-としての機能を持たせ、比較的簡単に低コストで、比較的高い効率でレ-ザビ-ム断面内のエネルギ-分布の均一性を実現する。2枚のミラ-の折れ角の微調整機構を持たせることにより、重ね合わせ調整の自由度を拡げることができる。

請求項（抜粋）：

エキシマレ-ザ発振器と、屈曲して突き合わせた2枚のミラ-と、投影光学系とを具備し、前記2枚のミラ-で、レ-ザビ-ム断面を2分して、その1部あるいは全部が重なり合う光学配置とし、前記屈曲した2枚のミラ-をコ-ナ-ミラ-あるいは折り返しミラ-として配置したことを特徴とするエキシマレ-ザ加工装置。

IPC (2件)：

H01S 3/086 ,  H01S 3/101

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平1-251440
  
• 特開平2-166783
  
• 特開昭62-284340
  
• 特開平1-319727
  
• 特開平2-297986