特許
J-GLOBAL ID：200903027849151895
リソグラフィックマスクおよびパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-049092
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317893
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 基板上のイメージにブライトスポットが生じないマスクを提供する。【構成】 複数の位相シフト領域24,26,28は、エッジのイメージが分離する距離以下に離間されたエッジを有し、位相をシフトしない物質上に、異なった任意に選択可能な角度の方向(不平行と平行)を有し、作製を容易にしイメージ面に任意のパターンで位相シフト領域を書き込むのを容易にする平行な行と列のマトリクスで配置される。少なくとも位相シフト領域の1つは、マスク10bの露光によって位相シフト領域に対応する領域を覆うフォトレジストの連続体でパターンを作るための最小距離以下に位相シフト領域の隣接するもののエッジから離間したエッジを持った連結位相シフト領域28を構成する。
請求項（抜粋）：
複数の不連続な位相シフト領域で部分的に覆われた位相をシフトしない領域を与える透明部分を有し、前記位相シフト領域の少なくとも1つは、位相シフト領域の少なくとも他の1つから任意に選択可能で不平行な方向に拡がり、前記位相シフト領域の各々は、エッジを有し、これらのエッジは、フォトレジストの露光特性により決定され、前記エッジのイメージが分離する距離以下の距離だけ、互いに離間し、かつ、隣接する位相シフト領域の対応するエッジから前記距離だけ離間している、フォトレジストを露光するためのリソグラフィックマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
