特許
J-GLOBAL ID:200903027849240227
光学走査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 静夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-047201
公開番号(公開出願番号):特開2004-258173
出願日: 2003年02月25日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】本発明は、レーザビームの光量損失を効果的に回避することができるともに、光偏向素子を大型化することなく、各レーザビームに対する感光体上での有効走査範囲を確保することができる光学走査装置を提供することを目的とする。【解決手段】光源であるマルチビーム半導体レーザ2から発生したレーザビームB1、B2は、コリメータレンズ3により略平行光束とされ、各々、コリメータレンズ3と偏向光学素子である三角プリズム19の間に設けられたアパーチャ18により断面の寸法精度が高いレーザビームに整形される。アパーチャ18により整形されたレーザビームB1は、シリンドリカルレンズ4により集光される。一方、アパーチャ18により整形されたレーザビームB2は、偏向光学素子である三角プリズム19に入射し、三角プリズム19の内部反射面22により反射され光路が変更された後、シリンドリカルレンズ4により集光される。次いで、レーザビームB1、B2は、所定のチルト角αを成して回転多面鏡の反射面に入射する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
少なくとも、第1のビーム発生手段と第2のビーム発生手段とを備える光学走査装置であって、
前記第1のビーム発生手段は、第1のレーザ光を発生する第1の光源と、前記第1のレーザ光を略平行光束にする第1のコリメータレンズと、前記第1のコリメータレンズにより略平行光束とされた前記第1のレーザ光を整形する第1のアパーチャとを備え、
前記第2のビーム発生手段は、第2のレーザ光を発生する第2の光源と、前記第2のレーザ光を略平行光束にする第2のコリメータレンズと、前記第2のコリメータレンズにより略平行光束とされた前記第2のレーザ光を整形する第2のアパーチャとを備え、
前記第1のアパーチャは、前記第1のコリメータレンズと、前記第1及び第2のレーザ光が近接した状態で光偏向素子へ入射するように、前記第2のアパーチャにより整形された前記第2のレーザ光を偏向する偏向光学素子との間に設けられるとともに、前記第2のアパーチャは、前記第2のコリメータレンズと前記偏向光学素子との間に設けられ、前記偏向光学素子は、前記第1及び第2のレーザ光の光偏向素子への入射角の差が微差となるように、前記第2のレーザ光を偏向することを特徴とする光学走査装置。
IPC (4件):
G02B26/10
, B41J2/44
, G02B13/00
, H04N1/113
FI (5件):
G02B26/10 F
, G02B26/10 B
, G02B13/00
, B41J3/00 D
, H04N1/04 104A
Fターム (23件):
2C362AA07
, 2C362AA10
, 2C362AA11
, 2C362BA82
, 2C362DA03
, 2H045BA22
, 2H045BA33
, 2H045CB24
, 2H045DA02
, 2H087KA19
, 2H087LA22
, 2H087RA41
, 2H087RA48
, 2H087TA01
, 2H087TA02
, 2H087TA08
, 5C072AA03
, 5C072BA04
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA13
, 5C072HB08
, 5C072XA05
引用特許:
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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光源装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-248735
出願人:株式会社リコー
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マルチビーム走査装置、光源装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-085875
出願人:ペンタックス株式会社
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特開昭60-201319
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