特許

J-GLOBAL ID：200903027861074260

直流スパッタ条件下で優れた耐割損性を発揮する光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット

発明者： 三島 昭史 ,  渡辺 和男 ,  森 理恵 ,  姜 仁鎬 ,  小田 淳一
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-176458
公開番号（公開出願番号）：特開2001-355065
出願日： 2000年06月13日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】【課題】 高出力直流スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用ターゲット材を提供する。【解決手段】 銅:0.1〜3%、酸化ケイ素:2〜10%、酸化チタン:2〜10%、酸化インジウム:20〜40%、硫化亜鉛:残りからなる組成を有し、前記銅の一部または全部が硫化亜鉛に固溶しており、さらに前記酸化チタンは連続相である酸化ケイ素により結合した複合粒子ととして素地中に分散している組織を有するホットプレス焼結体で構成した直流スパッタ条件下ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

質量%(以下、%は質量%を示す)で、銅:0.1〜3%、酸化ケイ素:2〜10%、酸化チタン:2〜10%、酸化インジウム:20〜40%、硫化亜鉛:残りからなる組成を有するホットプレス焼結体で構成したことを特徴とする、直流スパッタ条件下で優れた耐割損性を発揮する光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/547 ,  G11B 7/26 531

FI (3件)：

C23C 14/34 A ,  G11B 7/26 531 ,  C04B 35/00 T

Fターム (21件)：

4G030AA16 ,  4G030AA31 ,  4G030AA34 ,  4G030AA37 ,  4G030AA56 ,  4G030BA14 ,  4G030BA18 ,  4G030CA01 ,  4G030GA29 ,  4K029BA43 ,  4K029BA51 ,  4K029BA64 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09 ,  5D121EE13