特許

J-GLOBAL ID：200903027866991708

フルオレン誘導体の製造法

発明者： 上澤 俊治 ,  河村 芳範 ,  森 隆司 ,  大橋 紘一
出願人/特許権者： 田岡化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-218004
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045656
出願日： 1996年07月30日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、工業的な実施に好適であり、且つ経済的に有利なフルオレン誘導体の製造方法、即ち、9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンを高品質、高収率で工業的に有利に製造する方法を提供することにある。【解決手段】【請求項1】 硫酸とチオールを触媒として用いてフルオレノンとフェノキシエタノールとを反応させて9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンを製造する方法において、反応溶媒として、以下の条件(1)、(2)及び(3)(1)水と相溶し難い(2)硫酸と反応し難い(3)目的とする9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンが溶解し易いことを同時に満たす有機溶剤を使用することを特徴とするフルオレン誘導体の製造法。

請求項（抜粋）：

硫酸とチオールを触媒として用いてフルオレノンとフェノキシエタノールとを反応させて9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンを製造する方法において、反応溶媒として、以下の条件(1)、(2)及び(3)(1)水と相溶し難い(2)硫酸と反応し難い(3)目的とする9,9-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンが溶解し易いことを同時に満たす有機溶剤を使用することを特徴とするフルオレン誘導体の製造法。

IPC (4件)：

C07C 43/23 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 41/30 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 43/23 B ,  B01J 31/02 103 Z ,  C07C 41/30 ,  C07B 61/00 300