特許

J-GLOBAL ID：200903027872859501

パルス状高輝度γ線発生方法および装置

発明者： 田中 和夫 ,  北川 米喜 ,  児玉 了祐 ,  山中 龍彦
出願人/特許権者： 関西ティー・エル・オー株式会社
代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123005
公開番号（公開出願番号）：特開2000-314800
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】 高輝度で硬いγ線を発生し、厚い金属材料などの被検査体14を透過して診断を行うこと。【解決手段】 容器6内の真空室5において、レーザ源1から、ターゲット材料4に、1018W/cm2以上のパルス状レーザ光を発生して照射し、約0.1MeV〜約1GeVの指向性を有するγ線を発生する。レーザ光のパルス幅は、約10-12secである。ターゲット材料4は、原子番号1〜100の中から適当なものを選び、たとえば、金属、合成樹脂、常温で液体または気体である凝固した物質などであってもよい。

請求項（抜粋）：

1018〜1022W/cm2のパルス状レーザ光を、ターゲット材料に照射することによって、γ線を発生することを特徴とするパルス状高輝度γ線発生方法。