特許
J-GLOBAL ID：200903027873041944

走査型露光方法及び装置

発明者：
谷口 哲夫

谷口 哲夫 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-199890
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045846
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 レチクル側のステージと投影光学系との間隔が狭い場合でも、レチクルのパターン面の形状を計測して、良好な結像特性を得る。【解決手段】 露光用の照明光のもとでレチクルRのパターンの一部が投影光学系PLを介してウエハW上に投影された状態で、レチクルR及びウエハWを投影光学系PLに対して同期走査することで露光が行われる。投影光学系PLとレチクルステージRSTとの間の空間に対して走査方向に外れた位置に面形状検出系30を配置し、走査露光の助走期間中等に面形状検出系30を介してレチクルRのパターン面の面形状を計測する。この計測結果より像面位置等の結像特性の変化量を算出し、この変化量を補正するように投影光学系PLの結像特性、又はウエハWのフォーカス位置を制御する。
請求項（抜粋）：
マスク及び基板を同期して移動することにより、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板上に転写する走査型露光方法において、前記マスクのパターン像で前記基板を走査露光するのに先立って、前記マスクのパターン面の形状を計測し、走査露光時に前記パターン面の計測結果に基づいて前記投影光学系の結像特性及び前記基板の位置の少なくとも一方を補正することを特徴とする走査型露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207
FI (4件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 525 W
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 露光装置および露光方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-338868   出願人：株式会社東芝
  • 特開平1-292206
  • 特開平4-297809
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