特許
J-GLOBAL ID:200903027890926976
パターン付基板及びその作成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-259556
公開番号(公開出願番号):特開平6-109918
出願日: 1992年09月29日
公開日(公表日): 1994年04月22日
要約:
【要約】【目的】 本発明は電子装置等に用いられる、精密な位置合わせマークを要する基板に関するもので、寸法、形状、位置精度等の再現性が高く、生産性に優れて低コストの基板を提供することを目的とする。【構成】 オフセット印刷により主たる機能パターンを形成し、同時に形成したオフセット印刷による第1の位置合わせマークを起点に、流体を噴出させる機構をもった描画点の位置移動方式により、第2の位置合わせマークを形成することによる。
請求項(抜粋):
基板上にオフセット印刷で機能パターンおよび第一の位置合わせマークを作成し、組立作業を行うことを目的とした第二の位置合わせマークを、この第一の位置合わせマークを起点として形成したパターン付基板の作成方法。
IPC (6件):
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335
, G03F 1/08
, G03F 9/00
, H05K 3/00
, H05K 3/12
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