特許
J-GLOBAL ID:200903027891688939
投影光学像のシミュレーション方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-197679
公開番号(公開出願番号):特開平7-037769
出願日: 1993年07月16日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】【目的】 大開口の投影光学系における結像分布の3次元ベクトル成分を、単純素朴な方法で計算できる投影光学像のシミュレーション方法を提供する。【構成】 マスク3および瞳面5を格子状に分割し、これに整合させて、マスク面から発生する光線、および瞳面上に投影される光源の回折像から発生する光線を追跡し、結像面上の電磁界および強度の和を計算する。
請求項(抜粋):
マスクパタンの投影光学系によるウエハ上の結像面への投影像をシミュレーションする方法であって、マスク面から発生する光線を結像面まで追跡するステップと、瞳面上に投影される光源の回折像から前記結像面への光線を追跡するステップとを有することを特徴とする投影光学像のシミュレーション方法。
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