特許

J-GLOBAL ID：200903027891801255

ビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノール、その製造法、高分子材料組成物及び高分子材料改質剤

発明者： 佐藤 和也 ,  田井 誠司
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-204014
公開番号（公開出願番号）：特開2001-031609
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：

【要約】【課題】 高分子材料改質剤として有用なビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノール及びその製造法、曲げ弾性率及び曲げ強度が優れる高分子材料組成物並びに高分子材料の溶融流動性、低温時の柔軟性、曲げ弾性率及び曲げ強度等の機械特性を向上でき、ブリードが無く低臭気である高分子材料改質剤を提供する。【解決手段】 下記式(1)で表されるビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノール、ビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノールを水素化反応させることを特徴とするビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノールの製造法、高分子材料に前記ビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノールを配合してなる高分子材料組成物及びビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノールからなる高分子材料改質剤。【化1】

請求項（抜粋）：

下記式(1)【化1】で表されるビス(1,1,3,3-テトラメチルブチル)シクロヘキサノール。

IPC (5件)：

C07C 35/08 ,  C07C 29/20 ,  C08K 5/05 ,  C08L 23/00 ,  C08L101/16

FI (5件)：

C07C 35/08 ,  C07C 29/20 ,  C08K 5/05 ,  C08L 23/00 ,  C08L101/00

Fターム (53件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB51 ,  4H006AC11 ,  4H006AC41 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA55 ,  4H006BB14 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC34 ,  4H006BE20 ,  4H006BJ20 ,  4H006BN20 ,  4H006FC22 ,  4H006FE12 ,  4J002AC011 ,  4J002AC031 ,  4J002AC071 ,  4J002AC081 ,  4J002BB031 ,  4J002BB051 ,  4J002BB121 ,  4J002BB141 ,  4J002BB151 ,  4J002BC031 ,  4J002BP021 ,  4J002BP031 ,  4J002CC031 ,  4J002CC161 ,  4J002CC181 ,  4J002CD001 ,  4J002CF061 ,  4J002CF071 ,  4J002CF211 ,  4J002CG001 ,  4J002CH071 ,  4J002CK021 ,  4J002CL001 ,  4J002CM041 ,  4J002CN011 ,  4J002CP031 ,  4J002EC036