特許
J-GLOBAL ID：200903027901089001
チタン高含有量のシリカライト触媒を用いるエポキシ化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋沢 政光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123237
公開番号（公開出願番号）：特開平6-009592
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：
【要約】【目的】オレフィンをエポキシ化してエポキシド官能基を含有する生成物を高収率で得る方法を提供する。【構成】比較的チタン含有量の高い結晶性チタン・シリカライト・ゼオライトの存在下オレフィンを過酸化水素でエポキシ化する。【効果】過酸化水素、またはオレフィンの非選択的損失を最小に維持して、エポキシドは高収率で得られる。
請求項（抜粋）：
そのゼオライト格子枠組内のSi:Tiモル比が8:1〜23:1のチタン・シリカライト・ゼオライトの触媒的有効量の存在下、オレフィンをエポキシドに転換するのに有効な時間と温度下でオレフィンを過酸化水素源に接触させることから成るエポキシドの製造方法。
IPC (2件)：
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