特許

J-GLOBAL ID：200903027905305612

ロールマーキング方法

発明者： 恩田 和雄 ,  今江 敏夫 ,  長濱 拓也
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204954
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049671
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：

【要約】【目的】ロール表面に耐酸樹脂被膜を塗布し、パルス状レーザ光を照射して被膜を部分的に蒸発させ、エッチングにより食刻してロール表面に模様を形成する方法において、複数水準の食刻深さをもつ微細模様をロール表面に形成する。【構成】レーザ光のパルスピッチを変更し、通常のレーザドットを施した領域1と、レーザ光のOFF状態を1ドットおきに施した領域2と、レーザ光の照射を行わない領域3とを形成し、エッチングし、深さの異なる模様を得る。

請求項（抜粋）：

ロール表面に耐酸樹脂被膜を塗布し、パルス状レーザ光を照射して該被膜を部分的に蒸発させ、エッチングにより食刻してロール表面に模様を形成する方法において、レーザ光のパルスピッチを変更し、模様の深さを複数段に形成することを特徴とするロールマーキング方法。

IPC (4件)：

C23F 4/04 ,  B21B 1/22 ,  B23K 26/00 ,  C23F 1/00