特許
J-GLOBAL ID：200903027917910040
荷電ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-286683
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120126
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 キャラクタビームにおいても、第1成形アパーチャ像をアパーチャマスクに投影するレンズの焦点合わせ、第1成形アパーチャ像の各キャラクタに対する位置決め、及びキャラクタ毎の僅かな電流密度のずれ補正等を行うことができ、描画精度の向上をはかり得る電子ビーム描画装置を提供すること。【構成】 矩形アパーチャ27aが形成された第1のアパーチャマスク27と繰り返しパターンに相当する複数種のアパーチャ28a〜28dが形成された第2のアパーチャマスク28とを対向配置し、矩形アパーチャ27aの成形アパーチャ像をアパーチャマスク28のいずれかのアパーチャに選択的に照射し、生成された成形ビームを偏向して試料上の所望の位置に描画するキャラクタプロジェクション方式の電子ビーム描画装置において、アパーチャマスク28の4隅に成形アパーチャ像よりも大きなビーム透過孔28fを設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ビーム成形用アパーチャが形成された第1のアパーチャマスクと繰り返しパターンに相当する複数種のアパーチャが形成された第2のアパーチャマスクとを対向配置し、第1のアパーチャマスクに荷電ビームを照射して得られる第1成形アパーチャ像を第2のアパーチャマスクのいずれかのアパーチャに選択的に照射して前記繰り返しパターンに相当する成形ビームを生成し、この成形ビームを偏向して試料上の所望の位置に描画するキャラクタプロジェクション方式の荷電ビーム描画装置において、前記第2のアパーチャマスクの少なくとも1箇所に前記第1成形アパーチャ像よりも大きなビーム透過孔を設けてなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 B
, H01L 21/30 341 R
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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