ポジ型感光性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-138809
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330172
出願日： 2002年05月14日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板(SOG基板)上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物及びアルキルスルホニウム塩化合物、及び、(B)ノルボルナン構造とともにラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する、下記一般式(A2I)又は下記一般式(A2II)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種、及び、(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】一般式(A2I)中:R1c〜R5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。R6c及びR7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Rx及びRyは、各々独立に、アルキル基、2-オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、アリル基、又はビニル基を表す。R1c〜R7c中のいずれか2つ以上、及びRxとRyは、それぞれ結合して環構造を形成しても良く、この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。X-は、スルホン酸、カルボン酸、又はスルホニルイミドのアニオンを表す。一般式(A2II)中:R1d〜R3dは、各々独立に、アルキル基又は2-オキソアルキル基を表す。R1d〜R3dは、その内の2つが互いに結合して環構造を形成してもよい。X-は、アニオンを表す。【化2】一般式(I)中:R1〜R4は、各々独立に、水素原子、シアノ基、炭化水素基、又は-COOR5を表す。尚、R1〜R4のうち少なくとも2つが結合してラクトン環を形成する。R5は、水素原子又は炭化水素基を表す。mは、0又は1を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 , C08F 34/02 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A , C08F 34/02 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 4J100AR32P , 4J100BA20P , 4J100BA40P , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100JA38

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