特許

J-GLOBAL ID：200903027937064781

導電性複合酸化物層の製造方法、強誘電体層を有する積層体の製造方法

発明者： 大橋 幸司 ,  岩下 節也
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (4件)： 布施 行夫 ,  大渕 美千栄 ,  伊奈 達也 ,  竹腰 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-316968
公開番号（公開出願番号）：特開2007-119892
出願日： 2005年10月31日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：

【課題】結晶性の良好な導電性複合酸化物層が得られる導電性複合酸化物層の製造方法を提供すること。【解決手段】導電性複合酸化物層の製造方法は、基体の上方に、第1酸素濃度で行われる第1スパッタリングによって、一般式ABO3で表される第1導電性複合酸化物層を形成する工程と、 前記第1導電性複合酸化物層の上方に、少なくとも第1酸素濃度よりも酸素濃度が低い第2酸素濃度で行われる第2スパッタリングによって、一般式ABO3で表される第2導電性複合酸化物層を形成する工程と、を含む。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基体の上方に、第1酸素濃度で行われる第1スパッタリングによって、一般式ABO3で表される第1導電性複合酸化物層を形成する工程と、 前記第1導電性複合酸化物層の上方に、少なくとも第1酸素濃度よりも酸素濃度が低い第2酸素濃度で行われる第2スパッタリングによって、一般式ABO3で表される第2導電性複合酸化物層を形成する工程と、 を含む、導電性複合酸化物層の製造方法。

IPC (9件)：

C23C 14/06 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/22 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (10件)：

C23C14/06 P ,  H01L27/10 444C ,  H01L27/10 444B ,  H01L27/10 444Z ,  H01L41/08 J ,  H01L41/08 L ,  H01L41/18 101D ,  H01L41/18 101Z ,  H01L41/22 Z ,  B41J3/04 103A

Fターム (30件)：

2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14 ,  4K029AA06 ,  4K029AA07 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BB07 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC35 ,  4K029GA01 ,  5F083FR01 ,  5F083FR02 ,  5F083FR03 ,  5F083JA14 ,  5F083JA15 ,  5F083JA17 ,  5F083JA38 ,  5F083JA45 ,  5F083LA12 ,  5F083LA16 ,  5F083PR22 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33