特許
J-GLOBAL ID：200903027945974746
空間光変調素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-125845
公開番号（公開出願番号）：特開平5-323358
出願日： 1992年05月19日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【目的】 配向欠陥を防止され、或は発生しても局所部に限られる、画素欠陥の少ない空間光変調素子を提供する。【構成】 少なくとも光導電層103と液晶層106、及びそれらの層間の同一平面内に微小形状に分割された金属反射膜104とで構成される空間光変調素子において、前記金属薄膜上の液晶層の膜厚を、前記金属薄膜間の液晶層の膜厚より薄くする。透明導電性電極を被覆した透明絶縁性基板に光導電層を成膜し、一様に金属反射膜を成膜し、フォトリソグラフィ-によって微小形状のパタ-ンを成形した後、この微小形状の金属反射膜をマスクとして光導電層をエッチングし段差を設ける。
請求項（抜粋）：
少なくとも光導電層と液晶層、及びそれらの層間の同一平面内に微小形状に分割された金属反射膜とで構成される空間光変調素子において、前記金属薄膜上の液晶層の膜厚と、前記金属薄膜間の液晶層の膜厚が異なることを特徴とする空間光変調素子。
IPC (2件)：
G02F 1/135
, G02F 1/13 505
