特許
J-GLOBAL ID:200903027947380991

ポリシランを使用した多色パターン形成法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-047782
公開番号(公開出願番号):特開平6-258516
出願日: 1993年03月09日
公開日(公表日): 1994年09月16日
要約:
【要約】【目的】簡便かつ生産性に優れたカラーフィルターの製法を提供する。【構成】透明電極上にポリシラン層を形成、これを紫外線露光することにより着色パターン潜像を形成し、これを色素を含む電着液中で電着することにより着色パターンを具現化させる方法。
請求項(抜粋):
a) 基板上に透明電極層を介して設けられた式【化1】(式中R1,R2、R3およびR4は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基および芳香族炭化水素残基からなる群からそれぞれ独立して選択される基であり、mおよびnは整数である。)で示される構造のポリシランからなるポリシラン層を選択的に紫外線照射露光して着色パターンの潜像を形成する工程と、b) 着色パターンの潜像が形成された該ポリシラン層を、少なくとも1種類の染料もしくは顔料を含む電着可能な溶液中に浸漬し、電着することにより潜像部にパターン着色する工程:およびc) 該ポリシラン層に異なる着色パターンの潜像を形成すること、および異なる染料もしくは顔料を用いること以外は、該パターン着色工程と同様にして少なくとも1回行われる別のパターン着色工程;を包含するポリシラン層に多色着色パターンを形成する方法。
IPC (2件):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-366378
  • 特公昭47-002949
  • 特開昭64-007922
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