電磁的に結合された平面プラズマ装置内の酸化物をエッチングするための改良されたプロセス

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-301967
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283473
出願日： 1993年12月01日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：

【要約】【目的】エッチングの選択性及び異方性を改善し、粒子の形成を減少させつつエッチング速度を改善することを目的とする。【構成】壁面にアクセスポート14を有するチャンバ12と、アクセスポート14をシールする絶縁シールド18と、チャンバ12に供給されるプラズマ先行ガスのためのポート17と、処理される基板15をチャンバ12に対して出し入れするためのポートと、アクセスポート14にほぼ平行な基板支持部13と、チャンバ12の外で絶縁シールド18の近くに配置された電導体の平面コイル20と、高周波源30をコイル20に結合する手段とを備え、チャンバ12内で発生したプラズマの中または近傍にフッ素補集材26が設けられている。

請求項（抜粋）：

平面プラズマを生成する装置であって、チャンバと、該チャンバの一端に設けられている絶縁窓と、前記チャンバに供給されるプラズマ先行ガスのためのポートと、前記チャンバ内に設けられ前記アクセスポートに略平行な基板支持部と、前記チャンバの外で前記絶縁窓の近くに配置された電導体の平面コイルと、高周波源(radio frequency source)を前記コイルに結合する手段とを備え、前記チャンバ内で発生したプラズマの中または近傍にフッ素補集材(scavenger for fluorine)が設けられた装置。

IPC (3件)：

H01L 21/302 , B01J 19/08 , C23F 4/00

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平4-334022
特開平2-229431
特開平3-276626

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審査官引用 (7件)

特開平2-229431
特開平4-334022
特開平3-276626

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