特許
J-GLOBAL ID:200903027962704930

2周波による高周波加熱方法とその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚一 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-161820
公開番号(公開出願番号):特開2002-356715
出願日: 2001年05月30日
公開日(公表日): 2002年12月13日
要約:
【要約】【課題】 ひとつの高周波加熱コイルに、周波数の異なる2周波の加熱電力を、任意の時間同時に供給し、被加熱体に、最適な焼入れパターン、硬度及び低歪みが得られように高周波誘導加熱する。【解決手段】 本発明の2周波による高周波加熱方法は、被加熱体100を、ひとつの高周波加熱コイル2を使用して、周波数の異なる2周波により高周波誘導加熱する方法であって、前記2周波のうち、低い周波数の加熱電力と高い周波数の加熱電力との、いずれか一方の周波数の加熱電力により前記被加熱体100を高周波加熱中、任意の時間、他方の周波数の加熱電力を前記一方の周波数の加熱電力に同時に供給、又は重畳して、前記被加熱体100を高周波加熱する方法である。
請求項(抜粋):
被加熱体を、ひとつの高周波加熱コイルを使用して、周波数の異なる2周波により高周波誘導加熱する方法において、前記2周波のうち、低い周波数の加熱電力と高い周波数の加熱電力との、いずれか一方の周波数の加熱電力により前記被加熱体を高周波加熱中、任意の時間、他方の周波数の加熱電力を前記一方の周波数の加熱電力に同時に供給、又は重畳して、前記被加熱体を高周波加熱することを特徴とする2周波による高周波加熱方法。
IPC (4件):
C21D 1/42 ,  C21D 1/10 ,  H05B 6/04 321 ,  H05B 6/06 301
FI (4件):
C21D 1/42 T ,  C21D 1/10 U ,  H05B 6/04 321 ,  H05B 6/06 301
Fターム (6件):
3K059AA07 ,  3K059AC35 ,  3K059AD05 ,  3K059AD37 ,  3K059AD40 ,  3K059CD18
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭50-158945
  • 特表平5-507117
  • 特開昭62-149809
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