特許
J-GLOBAL ID：200903027975651941
表面改質層の作製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-214475
公開番号（公開出願番号）：特開平5-033130
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：
【要約】【目的】 イオン注入による表面改質層を厚く形成することによって金属材料の耐食性及び耐摩耗性を飛躍的に向上させる表面改質層の作製法を提供する。【構成】 イオン注入処理を施すにあたり、金属材料表面に0.1 A/m2以上の高電流密度で陽イオン注入を行うと共に金属蒸着を行うことにより、基板表面に化合物薄膜を形成すると共に該薄膜より深部側にイオン注入層を形成する。上記陽イオンとしては、B+ イオン,C+ イオン,N+ イオン,O+ イオンを用い、蒸着金属としてはTiが例示できる。
請求項（抜粋）：
イオン注入処理を施すことによって金属材料表面に耐食性及び耐摩耗性に優れた表面改質層を形成する方法であって、上記金属材料表面に陽イオン注入を行うと共に金属蒸着を行うことにより、基板表面に化合物薄膜を形成すると共に該薄膜より深部側にイオン注入層を形成することを特徴とする表面改質層の作製法。
IPC (2件)：
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