特許

J-GLOBAL ID：200903027985564613

薬液供給システムおよび基板処理システム

発明者： 村上 政明 ,  橋本 隆浩
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-286591
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114154
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 レジスト液等の薬液をポンプにより吸引して処理ユニットに圧送する際、薬液内の気泡を極力除去することができる薬液供給システムおよび基板処理システムを提供することレ。【解決手段】 ポンプ76の上流側に、レジスト液を貯留するためのバッファタンク75が設けられ、バッファタンク75内に所定量のレジスト液が貯留されている際に、配管開閉弁81が開かれて、バッファタンク75内が減圧され、レジスト液内混入気体が分岐管79を介して配管80に排出される。

請求項（抜粋）：

薬液タンクから処理ユニットに薬液を圧送して供給するための薬液供給システムであって、前記薬液タンクから薬液流路を介して供給された薬液を貯留するためのバッファタンクと、このバッファタンクの下流側に配置され、このバッファタンクから薬液を吸引して前記処理ユニットに薬液を吐出するためのポンプと、前記バッファタンク内を減圧して、薬液内に混入した気体を排出するための脱気手段と、前記ポンプを所定時間駆動して所定量の薬液を前記バッファタンクから前記処理ユニットに薬液を吐出させるとともに、前記バッファタンク内に所定量の薬液が貯留されている際に、前記脱気手段により前記バッファタンク内を減圧させて薬液内混入気体を脱気させる制御手段とを具備することを特徴とする薬液供給システム。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

H01L 21/30 564 Z ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/306 J

Fターム (44件)：

2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H025FA15 ,  2H096AA25 ,  2H096CA01 ,  2H096CA14 ,  2H096GA30 ,  4D075AC07 ,  4D075AC84 ,  4D075AC95 ,  4D075BB56Z ,  4D075BB93Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042BA06 ,  4F042BA09 ,  4F042CA01 ,  4F042CA07 ,  4F042CA09 ,  4F042CB08 ,  4F042CB18 ,  4F042CC03 ,  4F042EB29 ,  5F043CC11 ,  5F043CC12 ,  5F043CC14 ,  5F043EE08 ,  5F043EE27 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046JA03 ,  5F046JA15 ,  5F046JA22 ,  5F046LA03