特許

J-GLOBAL ID：200903027991233718

露光装置

発明者： 池ヶ谷 款治 ,  金子 義治 ,  内田 直樹
出願人/特許権者： 株式会社トプコン
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-056823
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245259
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 マスクの撓みの度合いに応じて補償を行って倍率誤差を減らすことができ、しかもシンプルな構成を有する露光装置を提供する。【構成】 被転写物体用保持ステージに設置された被転写物体にマスク用保持ステージに設置されたマスクのパターンを転写する露光装置において、前記被転写物体12と前記マスク11のギャップを検出するギャップ検出手段16,17を設け、前記ギャップ検出手段16,17によりギャップを検出し、前記被転写物体用ステージ14を、真空吸着溝23,28を有する保持面により前記被転写物体12を保持するとともに、流体圧力制御手段18,19により流体圧力を制御し前記保持面を変形可能にしたことを特徴とする露光装置。

請求項（抜粋）：

被転写物体用保持ステージに設置された被転写物体にマスク用保持ステージに設置されたマスクのパターンを転写する露光装置において、前記被転写物体用ステージを、真空吸着用溝を有する保持面により前記被転写物体を保持するとともに、流体圧力制御手段により流体圧力を制御し前記保持面を変形可能にしたことを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/20 ,  G03B 27/22 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521