特許

J-GLOBAL ID：200903027995666201

脱臭剤

発明者： 宇佐美 隆志
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩原 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-230646
公開番号（公開出願番号）：特開2000-051337
出願日： 1998年08月17日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】 ホルムアルデヒドを主成分とする悪臭ガスの脱臭性能に優れた脱臭剤を提供する。【解決手段】 一般式(I)〜(III)のいずれかで表される、特定の活性メチレン化合物、非環式尿素類、環式尿素類、ベンゼン誘導体、グリコールウリル化合物から選ばれる少なくとも一種のスカベンジャー化合物を主成分とするホルムアルデヒド含有悪臭ガスの脱臭剤。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)〜(III)のいずれかで表されるホルムアルデヒドスカベンジャー化合物を主成分とするホルムアルデヒド含有悪臭ガスの脱臭剤。一般式(I)【化1】(ここでR1 およびR2 は水素、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、またはアミノ基を表し、R1 とR2 は環を形成していてもよくR1 、R2 の少なくとも一方はアシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイルまたはアミノ基である。Xは-CH-、または-N-を表す。)一般式(II)【化2】(ここでR3 はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表し、フェニル環と双環を形成していてもよい。nは2以上の整数を表す。)一般式(III)【化3】(ここで、R4 、R5 及びR6 は各々同じであっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基またはアシル基を表し、R7 およびR8 は各々水素原子またはアルキル基を表す。)

FI (2件)：

A61L 9/01 H ,  A61L 9/01 K

Fターム (11件)：

4C080AA06 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080HH03 ,  4C080HH09 ,  4C080JJ03 ,  4C080JJ05 ,  4C080JJ06 ,  4C080KK10 ,  4C080MM12 ,  4C080MM18