特許
J-GLOBAL ID:200903027999110470
水素シルセスキオキサン樹脂の蒸気相析出
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青木 朗 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-132091
公開番号(公開出願番号):特開平5-186213
出願日: 1992年05月25日
公開日(公表日): 1993年07月27日
要約:
【要約】【目的】 蒸発させた水素シルセスキオキサン樹脂からケイ素及び酸素を含む皮膜を析出させる方法を提供する。【構成】 水素シルセスキオキサン蒸気を、被覆すべき基体を含む析出室に導入し、次いでこの蒸気を反応させて皮膜を形成する。
請求項(抜粋):
基体を含む析出室に水素シルセスキオキサンを含む気体を導入し、前記水素シルセスキオキサンを反応させて被膜を形成することを含む、基体上にケイ素と酸素とを含む被膜を析出させる方法。
IPC (2件):
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特許第3615272号
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特開昭63-139015
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特表昭58-501946
審査官引用 (1件)
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