特許
J-GLOBAL ID：200903028001292746
空気洗浄方法および高純度シリコンフイルター
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-217340
公開番号（公開出願番号）：特開平5-057136
出願日： 1991年08月28日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】【目的】 半導体装置の製造、より詳しくは、クリーンルームの空気の洗浄方法および空気洗浄用フィルターに関し、クリーンルームの空気中のHEPAないしULPAフィルターで除去できないガス状分子(不純物、P,Bなど)が製造過程にあるシリコンウエハー表面に付着し(吸着され)ないようにする。【構成】 半導体装置の製造過程で単結晶シリコン基板がクリーンルーム1の空気に晒される際に、該空気をHEPAないしULPAフィルター3に加えて高純度シリコンフィルター11を通過させた洗浄空気とする。追加して備えることになる高純度シリコンフィルターは、複数枚の鏡面仕上げ単結晶シリコンウエハー12を微小通風間隔でもって並べて構成されているかあるいは、複数個の単結晶シリコン劈開片18を通気孔のある石英箱17に詰めて構成されている。
請求項（抜粋）：
半導体装置の製造過程で単結晶シリコン基板がクリーンルーム(1)の空気に晒される際に、該空気をHEPAないしULPAフィルター(3)に加えて高純度シリコンフィルター(11)を通過させた洗浄空気とすることを特徴とする空気洗浄方法。
IPC (4件)：
B01D 53/34 120
, B01D 53/04
, B01D 46/00
, H01L 21/02
