特許

J-GLOBAL ID：200903028011748195

核酸固定用基板、核酸固定用基板の製造方法、及びガラスプレート、並びに核酸の解析方法

発明者： 服部 明彦
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-153957
公開番号（公開出願番号）：特開2003-009859
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：

【要約】【課題】 基板表面の所定領域に安定的に核酸を固定化することのできるようにした。【解決手段】 ガラス基板1の表面には光触媒活性を示す光触媒層2(例えばTiO2膜)が形成され、該光触媒層2の表面には光触媒作用で分解する撥水性基を有する有機化合物(例えば、フルオロアルキル基を有するシラン化合物)からなる薄膜3が積層されている。そして、薄膜3は、フォトマスクを介した光照射により相対的に濡れ性の大きな第1の領域3bと濡れ性の小さな第2の領域3aとが規則的に配列された配列パターンを有しており、前記第1の領域3bの表面にのみ核酸固定用化合物膜4が形成され、核酸は前記核酸固定用化合物膜4の膜上に安定的に固定化される。

請求項（抜粋）：

濡れ性の大きな第1の領域と濡れ性の小さな第2の領域とを規則的に配列した配列パターンが、ガラス基板の表面に形成されていることを特徴とする核酸固定用基板。

IPC (6件)：

C12N 15/09 ,  C12M 1/00 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 31/22 121 ,  G01N 33/53 ,  G01N 37/00 102

FI (6件)：

C12M 1/00 A ,  C12Q 1/68 A ,  G01N 31/22 121 P ,  G01N 33/53 M ,  G01N 37/00 102 ,  C12N 15/00 F

Fターム (16件)：

2G042AA01 ,  2G042BD19 ,  2G042CB03 ,  2G042DA10 ,  2G042HA02 ,  4B024AA11 ,  4B024CA01 ,  4B024HA19 ,  4B029AA21 ,  4B029AA23 ,  4B063QA01 ,  4B063QA13 ,  4B063QQ42 ,  4B063QR33 ,  4B063QR55 ,  4B063QS34