特許
J-GLOBAL ID：200903028015607081
マイクロエレクトロニクスで用いる反応装置などの密閉室内に製品を噴射するための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
二瓶 正敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-210773
公開番号（公開出願番号）：特開平5-212320
出願日： 1992年07月15日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：
【要約】【目的】 製品の供給源と、製品を噴射する密室空間とを接続する問題を解決する。【構成】 密閉室に供給するための供給源からくる気体または蒸気などの製品を密閉室に噴射するための装置で、密閉室 (3) の開口部 (10) に密封により固定された導電性の被覆管 (11) と、その長さ方向の少なくとも一部にわたって被覆管の中へ延び、被覆管の壁面からある距離だけ離れている導電性噴射パイプ (8)と、そして密封によりまた電気的に前記管と連結された接続壁 (13) とで構成され、前記被覆管、前記壁、前記噴射パイプは導電体を構成し、その導電体は電源部 (28)に接続することができ、電流が流れるとその電流によってジュール効果を生じ、少なくとも製品が通る噴射パイプを加熱する。
請求項（抜粋）：
供給源からくる気体または蒸気などの製品を、密閉室に供給する目的で噴射する装置であって、密閉室 (3) の開口部 (10) に密封により固定され、導電性である被覆管 (11)と、被覆管内へ少なくともその長さ方向の一部にわたって延び、被覆管の壁部からある距離だけ離れている導電性の噴射パイプ(8) と、密封によりまた電気的に前記管と連結された接続壁 (13) で構成され、前記被覆管、前記壁、前記噴射パイプが電源部に連結することができる導電体を構成し、この導電体に電流が流れると、ジュール効果によって、少なくとも製品が通る噴射パイプを加熱することを特徴とする噴射装置。
IPC (3件)：
B05B 1/24
, C23C 16/44
, H01L 21/205
