特許

J-GLOBAL ID：200903028028695052

電子線描画装置

発明者： 川野 源
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-246473
公開番号（公開出願番号）：特開平11-086773
出願日： 1997年09月11日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】現在、半導体材料であるウエハーは大型化する傾向があり、それに伴い、電子線描画装置内のステージなどのウエハーを移動させる機構系の面積も拡大化することが考えられる。【解決手段】ウエハーを360度回転可能な、試料台に配置させ、これを任意の一方向に移動させる。また、これに合わせ、カラム内の回転レンズを制御し、ウエハーを描画することで、試料台の移動量を極力小さくしかつステージを小型化する。

請求項（抜粋）：

電子線を発する手段および、該電子線形状を整形する手段および、その位置を決定する手段を備えられた試料(ウエハー)に微細加工を施す電子線描画装置において、該試料を配置,固定する機構が、任意の一方向に移動し、且つ回転する機構を具備したことを特徴とした電子線描画装置。

IPC (7件)：

H01J 37/305 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

H01J 37/305 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/20 A ,  H01L 21/30 541 L