特許
J-GLOBAL ID:200903028041148931

磁気ディスクの作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-218430
公開番号(公開出願番号):特開平11-066558
出願日: 1997年08月13日
公開日(公表日): 1999年03月09日
要約:
【要約】【課題】 樹脂基板表面にスパッタ法によって磁気記録媒体を形成する場合に、装置内のスパッタのフレイク等の異物が基板表面に付着する現象を抑制し、安定した記録再生を行なえる高信頼性の磁気ディスク作製方法を提供する。【解決手段】 真空中で樹脂基板11をベーキング中に、又は真空中で樹脂基板をベーキングしたのち真空を破ることなく連続して、樹脂基板上に導電性薄膜13を形成し、そののちスパッタ法により磁性膜16を形成する。導電性薄膜13は非化学量論組成の酸化物、非化学量論組成の窒化物、ネサガラス材のうちより選ばれた少なくとも1種類の化合物で構成する。
請求項(抜粋):
少なくとも樹脂基板と磁性膜とを備える磁気ディスクの作製方法において、真空中で前記樹脂基板をベーキング中に、又は真空中で前記樹脂基板をベーキングしたのち真空を破ることなく連続して、前記樹脂基板上に導電性薄膜を形成し、そののちスパッタ法により前記磁性膜を形成することを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
IPC (2件):
G11B 5/85 ,  G11B 5/66
FI (2件):
G11B 5/85 C ,  G11B 5/66
引用特許:
審査官引用 (6件)
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