特許
J-GLOBAL ID：200903028049092048
スチレン系重合体の製造方法及びその触媒
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-001231
公開番号（公開出願番号）：特開平5-186527
出願日： 1992年01月08日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】【目的】 高度なシンジオタクチック構造のスチレン系重合体を効率よく製造することができる触媒及びこの触媒を用いたスチレン系重合体の製造方法の開発。【構成】 遷移金属化合物及び非配位性アニオンと周期表第4族典型元素カチオンとのイオン性化合物からなる触媒及びこの触媒を用いてスチレン系重合体を製造する方法。
請求項（抜粋）：
(A)遷移金属化合物及び(B)非配位性アニオンと周期表第4族典型元素カチオンとのイオン性化合物からなることを特徴とする触媒。
IPC (2件)：
C08F 12/00 MJT
, C08F 4/16 MFB
