特許
J-GLOBAL ID：200903028053275300
フォトレジスト材料の分配分離方法及びフォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-262489
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090900
出願日： 1996年09月11日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 フォトレジスト分野、特にポジ型フォトレジスト分野において、スカム低減化、高解像度化、高焦点深度化、高感度化、高耐熱化をバランスよく達成することが可能なフォトレジスト組成物及びこのようなフォトレジスト組成物を得るためのフォトレジスト材料の分配分離方法を提供する。【解決手段】 ?@アルカリ可溶性樹脂をキノンジアジド化合物でエステル化してなる感光性樹脂、?Aアルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド化合物とを混合してなる樹脂・感光剤混合物、及び?B上記感光性樹脂?@と樹脂・感光剤混合物?Aとの混合物から選ばれるフォトレジスト材料を良溶媒と貧溶媒との混合溶媒中で撹拌して、このフォトレジスト材料中の高分子量成分を貧溶媒に溶解、分配した後、この貧溶媒を分離することを繰り返し、上記フォトレジスト材料を互いに重量平均分子量の異なる複数の成分に分離する。
請求項（抜粋）：
?@アルカリ可溶性樹脂をキノンジアジド化合物でエステル化してなる感光性樹脂、?Aアルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド化合物とを混合してなる樹脂・感光剤混合物、及び?B上記感光性樹脂?@と樹脂・感光剤混合物?Aとの混合物から選ばれるフォトレジスト材料を良溶媒と貧溶媒との混合溶媒中で撹拌して、このフォトレジスト材料中の高分子量成分を貧溶媒に溶解、分配した後、この貧溶媒を分離することを繰り返し、上記フォトレジスト材料を互いに重量平均分子量の異なる複数の成分に分離することを特徴とするフォトレジスト材料の分配分離方法。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501
, B01D 11/04
, G03F 7/022
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, B01D 11/04 C
, G03F 7/022
, H01L 21/30 502 R
