特許
J-GLOBAL ID：200903028055664525
粉末の処理方法、無機粉末の製造方法および被処理物の処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-150090
公開番号（公開出願番号）：特開2002-336688
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：
【要約】【課題】 プラズマフレームを用いた粉末の処理方法において、優れた特性を有する粉末を得る。【解決手段】 プラズマトーチ11に発生するプラズマフレーム15に原料粉末20aを原料粉末供給手段16から供給する。プラズマフレーム15に接触することにより高温になった原料粉末20bは、チャンバ25内を落下するが、このときチャンバ25に設けられた加熱部27a、27b、27cにより加熱されながら落下するため、処理粉末20cは急冷されずに回収容器41内で回収される。このようにして単結晶で球状の粉末を得ることができる。
請求項（抜粋）：
原料粉末をプラズマトーチに供給する供給工程と、供給された前記原料粉末を前記プラズマトーチ内のプラズマフレームにより加熱処理して高温の処理粉末を得る処理工程と、前記高温の処理粉末を、前記処理工程の前記プラズマフレームの温度より低い温度の加熱領域へ供給して加熱する加熱工程と、処理粉末を回収する回収工程とを有することを特徴とする粉末の処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01J 19/08 E
, B01J 19/00 N
4G075AA22
, 4G075AA27
, 4G075AA63
, 4G075BD09
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075CA12
, 4G075CA48
, 4G075DA01
, 4G075EA01
, 4G075EB01
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FC06
