特許
J-GLOBAL ID：200903028062882180

パターン形成方法

発明者：
畠山 潤

畠山 潤 について

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荻原 勤

荻原 勤 について

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中島 睦雄

中島 睦雄 について

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片山 和弘

片山 和弘 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-022685
公開番号（公開出願番号）：特開2009-301007
出願日： 2009年02月03日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】 ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。【解決手段】少なくとも、ポジ型レジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜を露光および現像してポジ型パターンを得る工程と、該得られたポジ型レジストパターンに架橋を形成する工程と、反転用膜を形成する工程と、アルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去することでポジ型パターンをネガ型パターンに反転する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、被加工基板上に酸によって脱離する酸不安定基を持つ繰り返し単位を有する樹脂を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜に高エネルギー線をパターン照射し、露光によって発生した酸を前記酸不安定基に作用させ、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応を行わせた後、アルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程と、該得られたポジ型レジストパターン中の前記酸不安定基を脱離させると共に、後のポジネガ反転工程で用いられるアルカリ性ウェットエッチング液に対する溶解性を失わない範囲で架橋を形成させて、後の反転膜形成工程で用いられる反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を与える工程と、該耐性を付与されたポジ型レジストパターン上にシロキサン結合を有する有機珪素化合物を含む反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程と、前記耐性付与されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去することでポジ型パターンをネガ型パターンに反転する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。
IPC (6件)：
G03F 7/40 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/28
FI (11件)：
G03F7/40 511 ,  G03F7/40 502 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/40 521 ,  G03F7/40 ,  H01L21/30 570 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/28
Fターム (68件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H025FA31 ,  2H025FA33 ,  2H025FA40 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096DA04 ,  2H096EA02 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA02 ,  2H096HA03 ,  2H096HA05 ,  2H096HA17 ,  2H096HA23 ,  2H096JA02 ,  2H096JA04 ,  2H096JA06 ,  4J100AJ02S ,  4J100AJ08S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA15S ,  4J100BA16S ,  4J100BB18S ,  4J100BC04S ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07S ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (3件)

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