特許
J-GLOBAL ID:200903028067246770
荷電粒子ビーム装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-296069
公開番号(公開出願番号):特開2003-100247
出願日: 2001年09月27日
公開日(公表日): 2003年04月04日
要約:
【要約】【課題】 2次電子や反射電子の画像信号に、可視光照明による直流成分の影響をなくすことができる荷電粒子ビーム装置を実現する。【解決手段】 電子ビームの水平走査期間の間は、可視光照明機構17からの光の照射が停止され、電子ビームの帰線期間の間、光が試料4に照射される。このように、電子ビームを試料上で走査して走査2次電子画像を画像メモリー14に書き込んでいる期間は、可視光照明機構からの可視光の照明を停止するので、2次電子画像信号に可視光に基づく直流成分が重畳されることは防止される。したがって、増幅器12が飽和することもなくなり、2次電子による高感度の観察が可能となる。
請求項(抜粋):
試料上で細く絞った荷電粒子ビームを走査し、試料から発生した信号を検出し、検出信号に基づいて試料の走査像を得ると共に、試料に光照明機構からの光を照射し、試料の光学像を得るように構成された荷電粒子ビーム装置において、荷電粒子ビームの試料への走査期間中試料への光照明機構からの光の照射を停止し、荷電粒子ビーム走査の帰線期間中に光照明機構からの光を試料に照射するように構成した荷電粒子ビーム装置。
IPC (5件):
H01J 37/22 502
, H01J 37/22
, G01N 23/225
, G21K 5/00
, G21K 5/04
FI (5件):
H01J 37/22 502 L
, H01J 37/22 502 A
, G01N 23/225
, G21K 5/00 A
, G21K 5/04 M
Fターム (12件):
2G001AA03
, 2G001AA07
, 2G001BA07
, 2G001BA15
, 2G001CA03
, 2G001CA07
, 2G001FA06
, 2G001FA12
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001JA13
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