特許
J-GLOBAL ID：200903028081844515
マイクロリレーおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-055829
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267383
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 小型で集積化が可能なリレーを製作する。【構成】 それぞれフォトリソグラフィにより形成された、バイメタル102とヒータ回路104aと下部電極105と上部電極106とを、基板101の上に積層する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィにより形成されたバイメタルと、フォトリソグラフィにより形成されたバイメタル加熱用のヒータ回路と、フォトリソグラフィにより形成されたバイメタルにより駆動される電極とを1枚の基板に積層したことを特徴とするマイクロリレー。
IPC (2件)：
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