特許
J-GLOBAL ID：200903028084745585
投影光学装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-136503
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055789
出願日： 1995年06月02日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：
【要約】【目的】 反り又は段差等をも考慮した全体的な平面度の悪いウエハに対しても、レチクルのパターンを高い解像度で露光する。【構成】 光源系1から射出された照明光ILは、コンデンサーレンズ2を介してレチクル3を照明し、レチクル3から射出された照明光ILは、ハーフプリズム4及び投影レンズ5を経て反射鏡6の反射面6a付近に、レチクル3のパターンの中間像を形成する。反射面6aで反射された照明光は、再び投影レンズ5及びハーフプリズム4を経た後、ウエハ7の表面7a上にレチクル3のパターン像を結像する。ウエハ7の表面の形状に応じて、反射鏡6の反射面の形状を変化させる。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの像を被投影物体の表面上に投影する投影光学装置において、前記マスクパターンの中間像を形成する中間像形成手段と、実質的に前記中間像の形成位置に配置される反射面を有する反射手段と、該反射手段により反射された光束に基づいて、前記被投影物体の表面上に前記マスクパターンの中間像を再結像させる再結像手段とを有し、前記反射手段は、前記被投影物体の表面の変形状態に応じた波面収差を前記中間像形成手段からの光束に付与することを特徴とする投影光学装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
