特許
J-GLOBAL ID:200903028085771385

品質分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-174999
公開番号(公開出願番号):特開平7-027710
出願日: 1993年07月15日
公開日(公表日): 1995年01月31日
要約:
【要約】【目的】 電子部品の実装工程におけるプリント基板の検査に適用するものでリアルタイムで不良の分析および不良要因の絞り込みを容易にするための方法を提供する。【構成】 品質分析方法は、計測値を管理する計測値管理データベース1、評価範囲をあらかじめ決める条件データベース4、条件データベース4の条件に基づいて計測値管理データベース1を変換した評価表5を作成し、評価表5を基準評価表に基づいて分析して結果を得る。
請求項(抜粋):
電子部品をプリント基板に実装する実装工程の検査において、検査対象となるプリント基板の評価範囲および評価項目をあらかじめ決める第1工程と、実装設備で検査した計測データを、第1工程の評価範囲および評価項目の条件で集計しデータベースに登録し、かつこの集計データを解析後、統計データとしてデータベースに登録する第2工程とを実行するプリント基板の品質分析方法。
IPC (2件):
G01N 21/88 ,  H05K 13/08
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭60-108960
  • 特開平2-287241
  • 特開平2-287241
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