特許
J-GLOBAL ID:200903028094166478
洗浄用化粧品組成物及びその使用
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-093610
公開番号(公開出願番号):特開平10-338899
出願日: 1998年04月06日
公開日(公表日): 1998年12月22日
要約:
【要約】【課題】 良好な洗浄力を保持すると同時に、優れた化粧品特性、特にもつれ解きやすさ、柔らかさ、処理した毛髪のしなやかさ及び量感を有する洗浄用組成物を提供する。【解決手段】 化粧品に許容される媒体中に、(A)少なくとも1つの硫酸アルキルエーテル型のアニオン性界面活性剤と、少なくとも1つのC8-C20アルキルベタイン型の両性界面活性剤とを含んでなる洗浄ベース、及び、(B)少なくとも1つのアミノシリコーンと、特定のホモポリマーから選択される少なくとも1つのカチオン性ポリマーとを含んでなるコンディショニング系を含有する洗浄用組成物。
請求項(抜粋):
化粧品に許容される媒体中に、(A)少なくとも1つの硫酸アルキルエーテル型のアニオン性界面活性剤と、少なくとも1つのC8-C20アルキルベタイン型の両性界面活性剤とを含んでなる洗浄ベース、及び、(B)少なくとも1つのアミノシリコーンと、下記式(I)及び/または(I’):【化1】(式中、k及びtは、0または1であって、k+tが1であり;R3は、水素原子またはメチル基を表し;R1及びR2は、互いに独立して、1から22の炭素原子を有するアルキル基、アルキル基が好ましくは1から5の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基、または低級(炭素原子1から5)アミドアルキル基を示し、あるいは、R1及びR2は、それに結合した窒素原子とともにピペリジルまたはモルホリニル等のヘテロ環を形成していてもよく;Y-は、臭化物、塩化物、酢酸、ホウ酸、クエン酸、酒石酸、重硫酸、重亜硫酸、硫酸またはリン酸のアニオンを表す)で表される単位を鎖の主成分として含むホモポリマーから選択される少なくとも1つのカチオン性ポリマーとを含んでなるコンディショニング系を含有することを特徴とする洗浄用組成物。
IPC (7件):
C11D 10/02
, A61K 7/075
, A61K 7/50
, C11D 1/94
, C11D 1:29
, C11D 1:90
, C11D 3:37
FI (4件):
C11D 10/02
, A61K 7/075
, A61K 7/50
, C11D 1/94
引用特許:
審査官引用 (6件)
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多価金属カチオンを含有したコンディショニングシャンプー
公報種別:公表公報
出願番号:特願平7-503470
出願人:ザプロクターエンドギャンブルカンパニー
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シャンプー組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-025017
出願人:花王株式会社
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頭皮・毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-021455
出願人:花王株式会社
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毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-026632
出願人:花王株式会社
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-205913
出願人:花王株式会社
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特開平4-139115
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