炭化水素異性化プロセス用金属添加済み微孔質材料

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 亀岡幹生 , 安藤克則
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-507061
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523136
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：

本発明は、中間孔径分子篩(好ましくは、MTT型又はTON型のゼオライト)を含有する触媒を製造する方法に向けられている。SSZ-32及びZSM-22は、そのような分子篩の例である。この触媒は、Ca、Cr、Mg、La、Ba、Pr、Sr、K及びNdから成る群から選ばれる1種以上の金属で変性される。その触媒は、さらに水素化目的のVIII族金属(単数又は複数)を添加されている。その触媒は、10個以上の炭素原子を有している直鎖パラフィン及び僅かに枝分かれしたパラフィンを含有する供給原料が異性化されるプロセスで用いるのに適している。

請求項（抜粋）：

炭化水素供給原料を脱ろうして異性化生成物を生成するためのプロセスで用いるのに適した脱ろう触媒を製造する方法において、前記供給原料は、10個以上の炭素原子を有する直鎖パラフィン及び僅かに枝分かれした鎖のパラフィンを含有しており、 (a)約4.2A〜約4.8Aの間の短軸と約5.0A〜約7.0Aの間の長軸とを有する一次元細孔を有する一次元十リング分子篩を合成する工程; (b)前記分子篩を、耐火性無機酸化物キャリヤの前駆体及び水溶液と混合して、約5〜約60重量%の分子篩含有量を有する混合物を形成する工程; (c)工程(b)からの混合物を押し出すか又は成形して、押出し物又は成形粒子を形成する工程; (d)工程(c)の押出し物又は成形粒子を乾燥させる工程; (e)工程(d)の乾燥済み押出し物又は成形粒子をか焼する工程; (f)工程(e)のか焼済み押出し物又は成形粒子を、Ca、Cr、Mg、La、Ba、Na、Pr、Sr、K及びNdから成る群から選ばれる少なくとも1種の金属で変性して、金属変性済み押出し物又は成形粒子を調製する工程; (g)工程(f)の金属添加済み押出し物又は成形粒子を乾燥させる工程; (h)工程(g)の金属変性済み押出し物又は成形粒子にVIII族金属を添加して触媒前駆体を調製する工程; (i)工程(h)の触媒前駆体を乾燥させる工程; (j)工程(i)の乾燥済み触媒前駆体をか焼して、完成された結合型脱ろう触媒を形成する工程; を包含する、上記製造方法。

IPC (9件)：

B01J 29/74 , B01J 35/10 , B01J 37/00 , B01J 37/04 , B01J 37/08 , C10G 45/64 , C10G 45/62 , C10G 65/02 , C10G 45/02

FI (9件)：

B01J29/74 M , B01J35/10 301A , B01J37/00 C , B01J37/04 , B01J37/08 , C10G45/64 , C10G45/62 , C10G65/02 , C10G45/02

Fターム (64件)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169AA09 , 4G169BA01A , 4G169BA02A , 4G169BA07A , 4G169BA07B , 4G169BA10B , 4G169BC02A , 4G169BC02B , 4G169BC03A , 4G169BC03B , 4G169BC09A , 4G169BC09B , 4G169BC10A , 4G169BC12A , 4G169BC12B , 4G169BC13A , 4G169BC42A , 4G169BC42B , 4G169BC44A , 4G169BC44B , 4G169BC58A , 4G169BC58B , 4G169BC65A , 4G169BC69A , 4G169BC72A , 4G169BC72B , 4G169BC75A , 4G169CC06 , 4G169CC14 , 4G169DA05 , 4G169EA02X , 4G169EC11X , 4G169EC12X , 4G169EC30 , 4G169FA01 , 4G169FB06 , 4G169FB30 , 4G169FB31 , 4G169FB65 , 4G169FB67 , 4G169FC02 , 4G169FC04 , 4G169FC07 , 4G169FC08 , 4G169FC09 , 4G169FC10 , 4G169ZA13A , 4G169ZA16A , 4G169ZA23A , 4G169ZA24A , 4G169ZA25A , 4G169ZA27A , 4G169ZA29A , 4G169ZA32A , 4G169ZA32B , 4G169ZA41A , 4G169ZD03 , 4G169ZD05 , 4H029CA00 , 4H029DA00 , 4H029DA10 , 4H029DA11

引用特許：

出願人引用 (7件)

特表平7-504151
特表平1-502273
特開昭55-129232

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審査官引用 (10件)

特表平5-508876
接触的脱蝋方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-582498 出願人：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
特開平1-228554

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