特許
J-GLOBAL ID:200903028113688804

ポーリング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤巻 正憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-338736
公開番号(公開出願番号):特開平10-177194
出願日: 1996年12月18日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 直流電圧を印加して強誘電体結晶にポーリングを行うポーリング装置において、安定して単分域の光学結晶を得ることができると共に結晶の製造が容易であるポーリング装置を提供する。【解決手段】 ポーリング装置は、強誘電体結晶33を間に挟んで対向配置された1対の電極35と、この電極を浸漬するオイルバス37と、このオイルバスを加熱するヒータ38と、電極間にポーリング電圧を印加する直流高圧電源39と、電極間の静電容量を測定する測定器10と、電極と直流高圧電源又は測定器との接続を切り替えるスイッチ15と、測定結果に基いてポーリング電圧を制御する制御装置とを有する。結晶33にポーリング電圧を印加した後、スイッチ15を測定器10側に切り替え、結晶33の静電容量を測定し、制御装置により静電容量の値からポーリング進行度を評価し、ポーリング電圧の設定値を修正する。
請求項(抜粋):
強誘電体結晶を間に挟んで対向配置された1対の電極と、前記電極にポーリング電圧を印加する直流高圧電源と、前記電極間の静電容量を測定する測定手段と、前記電極と前記直流高圧電源又は前記測定手段との接続を切り替えるスイッチと、前記測定手段の測定結果に基いて前記直流高圧電源によるポーリング電圧を制御する制御手段とを有することを特徴とするポーリング装置。
IPC (4件):
G02F 1/35 505 ,  C30B 29/32 ,  C30B 33/00 ,  G02B 1/02
FI (4件):
G02F 1/35 505 ,  C30B 29/32 C ,  C30B 33/00 ,  G02B 1/02

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