光ディスク原盤製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏木明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-036100
公開番号（公開出願番号）：特開平9-231569
出願日： 1996年02月23日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】光ディスク原盤の製造方法において、高密度かつ高精度なプリピット形成を可能とする。【解決手段】プリピット10の長さ分の露光パルスよりも長い露光パルスでプリピット10を形成し、所定の長さ以上のプリピット10については露光パルスを複数に分割する。これにより、高密度なプリピット10の形成を行なう場合であっても、露光パルスが長く与えられるために短いプリピット10の長さ及び幅が規定の寸法通りに形成される。また、長いプリピット10については、これを形成するための露光パルスが複数に分割されるため、レーザ光のパワーが過剰になってその幅が規定の寸法よりも広くなってしまうようなことが起こらず、長いプリピット10の長さ及び幅も規定の寸法通りに形成される。したがって、プリピット10が高精度に形成される。

請求項（抜粋）：

基板上にフォトレジスト膜を形成した後、このフォトレジスト膜に露光パルスに基づくレーザ光を照射してプリピットを形成し、現像することによって光ディスク原盤を製造する方法において、前記プリピットの長さ分の露光パルスよりも長い露光パルスで前記プリピットを形成し、所定の長さ以上の前記プリピットについては前記露光パルスを複数に分割することを特徴とする光ディスク原盤製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/00 , G11B 7/125 , G11B 7/26 501

FI (3件)：

G11B 7/00 L , G11B 7/125 B , G11B 7/26 501

前のページに戻る