特許

J-GLOBAL ID：200903028122590248

正規ブロック分割型集積回路装置、及びそれに用いる露光マスク装置、及びその製造方法

発明者： 橋本 正美
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-208472
公開番号（公開出願番号）：特開2003-023090
出願日： 2001年07月09日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】集積回路装置の微細化が進むに伴い露光工程に使用するガラスマスクが非常に高額となり、余程の生産数量が確保できないと現実的なコストでは生産できないという課題があった。また、多品種少量生産に適する従来の集積回路設計上の手法では微細化が提供する高性能、高機能を充分活かせないという課題があった。【解決手段】集積回路装置を一定の面積で規格化した正規ブロック毎に各機能ブロックを搭載する。またガラスマスクを正規ブロック単位の構成とし、各ブロック単位で露光を繰り返すようにした。

請求項（抜粋）：

半導体集積回路装置において、定められた面積の正規ブロック単位に集積回路装置が区画化され、かつ該集積回路装置が有する複数の各回路機能ブロックが、前記区画化された正規ブロック単位毎に配置されていることを特徴とする正規ブロック分割型集積回路装置。

IPC (4件)：

H01L 21/822 ,  H01L 21/82 ,  H01L 27/04 ,  H01L 27/118

FI (4件)：

H01L 27/04 A ,  H01L 21/82 A ,  H01L 21/82 B ,  H01L 21/82 M

Fターム (14件)：

5F038CA03 ,  5F038CA04 ,  5F038CA05 ,  5F038CA07 ,  5F038EZ20 ,  5F064AA03 ,  5F064AA04 ,  5F064AA08 ,  5F064BB09 ,  5F064BB13 ,  5F064DD07 ,  5F064DD13 ,  5F064DD18 ,  5F064DD24